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MOS管

MOS管和IGBT对比

demi /

MOS管中文名金属氧化物半导体绝缘栅场效应管。其输入阻抗高、开关速度快、热稳定性、电压控制电流等特性。IGBT中文名绝缘栅双极型场效应晶体管。是MOS管与晶体三极管的组合,MOS是作为输入管,而晶体三极管作为输出管。

关于MOS管的15个为什么(二)

demi /

<strong>9、为什么在E-MOSFET的栅-漏转移特性上,随着栅-源电压的增大,首先出现的是饱和区电流、然后才是线性区电流?</strong>

【答】E-MOSFET的栅-漏转移特性如图1所示。在栅-源电压VGS小于阈值电压VT时,器件截止(没有沟道),源-漏电流电流很小(称为亚阈电流)。

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关于MOS管的15个为什么(一)

demi /

<strong>1. 为什么E-MOSFET的阈值电压随着半导体衬底掺杂浓度的提高而增大?而随着温度的升高而下降?</strong>

【答】E-MOSFET的阈值电压就是使半导体表面产生反型层(导电沟道)所需要加的栅极电压。对于n沟道E-MOSFET,当栅电压使得p型半导体表面能带向下弯曲到表面势ψs≥2ψB时,即可认为半导体表面强反型,因为这时反型层中的少数载流子(电子)浓度就等于体内的多数载流子浓度(~掺杂浓度);这里的ψB是半导体Fermi势,即半导体禁带中央与Fermi能级之差。阈值电压VT包含有三个部分的电压(不考虑衬偏电压时):栅氧化层上的电压降Vox;半导体表面附近的电压降2ΨB:抵消MOS系统中各种电荷影响的电压降——平带电压VF。

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